磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究

用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。     

溶胶—凝胶法制备SiO2气凝胶薄膜溶胶粘度的研究

用低介电常数介质薄膜代替传统的SiO2薄膜是减小ULSI中互连延迟、串扰和能耗的有效方法.SiO2气凝胶薄膜因具有低介电常数、低密度、高热稳定性等性能而成为ULSI中金属间介质的理想材料.以正硅酸乙酯为原料,采用酸/碱两步溶胶-凝胶法结合匀胶和超临界干燥等工艺在硅片上成功制备了SiO2气凝胶薄膜.研究了不同配比的SiO2溶胶粘度随时间的变化;确定了适于匀胶的溶胶的粘度范围为9～15mPa*s;发现溶胶粘度在9～15mPa*s的时间随溶剂异丙醇(IPA)用量的增加和NH4OH的减少而延长.     

低压电场驱动下膜分离 CO2的研究

以离子交换膜为基础,进行预处理和化学改性.研究了不同预处理条件、化学改性方法及低压电场的电压对离子交换膜的CO2分离效率的影响.结果表明,改进处理条件、施加低压电场及在膜中加入亲水物质可明显地增加离子交换膜的二氧化碳通量.     

表面工程中膜基结合应力的线法分析

首次导出了平面问题两种介质分界线为离散线的线法基本方程;三维问题离散线分布于界面内的技法基本方程;并采用线法对拉伸法试验中膜基最大剪切应力问题进行了计算,指出了原有结果中的不足.     

渗碳气氛的热力学及动力学分析

本文对渗碳气氛进行热力学及动力学分析,给出炉气各组分间反应速率的测试方法及测试数据。结果表明,渗碳气氛的独立反应数为4,自由度为3,甲烷的渗碳作用不可忽略,控制甲烷这一碳源有利于提高碳势控制精度.     

平显PDU光学系统下组合玻璃镀负滤光膜对字符、背景亮度的影响

本文依据计算光束亮度的理论,分析论证了平显PDU 光学系统下组合玻璃镀负滤光膜后,对字符、背景亮度产生的影响,并以大量的计算数据,得出了平显PDU 在采用双组合玻璃的条件下,下组合玻璃能否采用负滤光膜的结论。     

用溶胶-凝胶法制备碳纤维三维编织物增强氧化铝基复合材料的研究

本文研究了溶胶－凝胶（Ｓｏｌ－ｇｅｌ）法制备碳纤维三维编织物增强氧化铝（Ａｌ２Ｏ３）基复合材料的成型工艺及其力学性能，研究了两种主要起始物Ａｌ（ＮＯ３）３、ＡｌＣｌ３配制的氧化铝溶胶对复合材料成型工艺和力学性能的影响。分别以Ａｌ（ＮＯ３）３和ＡｌＣｌ３为起始物，制备得到Ⅰ＃、Ｉ＃复合材料。研究表明，以Ａｌ（ＮＯ３）３为起始物配制的溶胶粘度较小，利于材料的致密化。经过溶胶浸渍、凝胶、裂解１３个周期后，Ⅰ＃材料的密度和室温三点弯曲强度分别为１．８６ｇ／ｃｍ３和１４５．２ＭＰａ，而ＩＩ＃材料的密度和室温三点弯曲强度分别为１．６３ｇ／ｃｍ３和１０４．１ＭＰａ，材料均呈典型的韧性断裂模式。用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）观察试样的断口形貌，发现断口表面有大量的纤维拔出，纤维表现了较好的增韧效果。     

WDM光纤通信用窄带滤光片膜系补偿膜层的最优化设计

在WDM光纤通信系统中充当分波 合波器的全介质F B型多腔窄带滤光片的膜层层数较多,一般采用规整膜系结构,其各层膜的光学厚度均为监控波长的1 4整数倍.但仅采用规整膜层的膜系往往不能完全满足设计指标.因此,提出一种在基本满足设计指标的多层规整膜系上叠加少量非规整膜层的膜系设计方法,其中非规整膜层的光学厚度是在计算机上借助最优化方法寻优而得.     

短切碳纤维混凝土电磁屏蔽规律的实验研究

随着电子产品普及和大功率电气设备数量的增加,导致电磁环境急剧恶化,从而带来了一系列隐患。简要阐述了电磁屏蔽的原理,介绍了碳纤维的性能,并对短切碳纤维水泥基复合材料的屏蔽性能进行了实验研究,制备出碳纤维吸波混凝土,测试了样品的电磁屏蔽性能,并比较3mm与6mm短切碳纤维在吸波混凝土中的屏蔽效能,分析、总结了实验样品中反映出来的规律,为设计高性能电磁屏蔽混凝土提供了依据。     

新历史主义语境下的中国影视研究

20世纪90年代之后,许多学者对西方新历史主义对中国新时期影视的影响表现出了一定的担扰,提出了解决的办法。